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303_088-160CP-TW

發佈日期 : 2009-04-29
公告號 406337
專利名稱 低補償電壓砷化銦鋁 (全文下載)
公告/公開日 2000/09/21
證書號 120842
申請日 1997/06/07
申請號 086107873
國際分類 H01L-021/328
公報卷期 27-27
發明人 劉文超
羅文雄
蔡榮輝
申請人 行政院國家科學委員會 台北巿和平東路二段一○六號十八樓
代理人名 洪澄文
摘要 兩種砷化銦鋁(AlInAs)/砷化銦鎵(GaInAs)異質結構侷限式雙極性電晶體,分別是砷化銦鋁侷限式(confinement)及砷化銦鋁/砷化銦鎵超晶格侷限式(superlatice- confinement)雙極性電晶體。該兩種結構在砷化銦鋁侷限層和砷化銦鎵基極層中加入一n型砷化銦鎵射極層,以消除射-基極間位障尖峰(potential spike),降低補償電壓(offset voltage)。
專利範圍 1.一種低補償電壓之砷化銦鋁侷限式異質雙極性電晶體,其包括:
一基板;
一緩衝層,包含砷化銦鎵材料,生成於上述基板上;
一集極層,包含砷化銦鎵材料,生成於上述緩衝層上;
一基極層,包含砷化銦鎵材料,生成於上述集極層上;
一射極層,包含砷化銦鎵材料,生成於上述基極層上;
一侷限層,包含砷化銦鋁材料,生成於上述射極層上;以及
一歐姆接觸層,包含砷化銦鎵材料,生成於上述侷限層上。
2.如申請專利範圍第1項所述之異質雙極性電晶體,其中,上述基板係由n+型InP所形成。
3.如申請專利範圍第1項所述之異質雙極性電晶體,其中,上述緩衝層係由n+型砷化銦鎵所
形成。
4.如申請專利範圍第1項所述之異質雙極性電晶體,其中,上述集極層係由n-型砷化銦鎵所
形成。
5.如申請專利範圍第1項所述之異質雙極性電晶體,其中,上述基極層係由p+型砷化銦鎵所
形成。
6.如申請專利範圍第1項所述之異質雙極性電晶體,其中,上述射極層係由n型砷化銦鎵所形
成。
7.如申請專利範圍第1項所述之異質雙極性電晶體,其中,上述侷限層係由n型砷化銦鋁所形
成。
8.如申請專利範圍第1項所述之異質雙極性電晶體,其中,上述歐姆接觸層係由n+型砷化銦
鎵所形成。
9.如申請專利範圍第3項所述之異質雙極性電晶體,其中,上述緩衝層厚度為0.3?m,摻雜
濃度為5ױ018cm-3。
10.如申請專利範圍第4項所述之異質雙極性電晶體,其中,上述集極層厚度為0.5?m,摻雜
濃度為5ױ016cm-3。
11.如申請專利範圍第5項所述之異質雙極性電晶體,其中,上述基極層厚度為0.2?m,摻雜
濃度為5ױ018cm-3。
12.如申請專利範圍第6項所述之異質雙極性電晶體,其中,上述射極層厚度為500埃,摻雜
濃度為5ױ017cm-3。
13.如申請專利範圍第7項所述之異質雙極性電晶體,其中,上述侷限層厚度為0.1?m,摻雜
濃度為5ױ017cm-3。
14.如申請專利範圍第4項所述之異質雙極性電晶體,其中,上述歐姆接觸層厚度為0.3?m,
摻雜濃度為3ױ018cm-3。
15.一種低補償電壓之砷化銦鋁/砷化銦鎵超晶格侷限式雙極性電晶體,其包括:
一基板;
一緩衝層,包含砷化銦鎵材料,生成於上述基板上;
一集極層,包含砷化銦鎵材料,生成於上述緩衝層上;
一基極層,包含砷化銦鎵材料,生成於上述集極層上;
一射極層,包含砷化銦鎵材料,生成於上述基極層上;
一15週期超晶格侷限層,其障壁包含砷化銦鋁材料,其量子井包含砷化銦鎵材料,生成於上
述射極層上;以及
一歐姆接觸層,包含砷化銦鎵材料,生成於上述超晶格侷限層上。
16.如申請專利範圍第15項所述之超晶格侷限式雙極性電晶體超晶格侷限式雙極性電晶體,
其中,上述基板係由n+型InP所形成。
17.如申請專利範圍第15項所述之超晶格侷限式雙極性電晶體,其中,上述緩衝層係由n+型
砷化銦鎵所形成。
18.如申請專利範圍第15項所述之超晶格侷限式雙極性電晶體,其中,上述集極層係由n-型
砷化銦鎵所形成。
19.如申請專利範圍第15項所述之超晶格侷限式雙極性電晶體,其中,上述基極層係由p+型
砷化銦鎵所形成。
20.如申請專利範圍第15項所述之超晶格侷限式雙極性電晶體,其中,上述射極層係由n型砷
化銦鎵所形成。
21.如申請專利範圍第15項所述之超晶格侷限式雙極性電晶體,其中,上述15週期侷限層之
障壁係由未摻雜之砷化銦鋁所形成。
22.如申請專利範圍第15項所述之超晶格侷限式雙極性電晶體,其中,上述15週期侷限層之
量子井係由之n+型砷化銦鎵所形成。
23.如申請專利範圍第15項所述之超晶格侷限式雙極性電晶體,其中,上述歐姆接觸層由n+
型砷化銦鎵所形成。
24.如申請專利範圍第17項所述之超晶格侷限性雙極性電晶體,其中,上述緩衝層厚度為0.2
?m,摻雜濃度為5ױ018cm-3。
25.如申請專利範圍第18項所述之超晶格侷限式雙極性電晶體,其中,上述集極層厚度為0.5
?m,摻雜濃度為5ױ016cm-3。
26.如申請專利範圍第19項所述之超晶格侷限式雙極性電晶體,其中,上述基極層厚度為0.2
?m,摻雜濃度為5ױ018cm-3。
27.如申請專利範圍第20項所述之超晶格侷限式雙極性電晶體,其中,上述射極層厚度為500
埃,摻雜濃度為5ױ017cm-3。
28.如申請專利範圍第21項所述之超晶格侷限式雙極性電晶體,其中,上述15週期侷限層之
障壁,厚度為0.1?m,摻雜濃度為5ױ017cm-3。
圖式簡單說明:
第一圖為本發明之砷化銦鋁侷限式雙極性電晶體結構圖;
第二圖為本發明之砷化銦鋁/砷化銦鎵超晶格侷限式雙極性電晶體結構圖;
第三圖為本發明之砷化銦鋁侷限式雙極性電晶體之射-基極傳導帶能帶圖;
第四圖為本發明之砷化銦鋁侷限式雙極性電晶體之電流-電壓輸出特性曲線;
第五圖為本發明之砷化銦鋁/砷化銦鎵超晶格侷限式雙極性電晶體之電流-電壓輸出特
性曲線;以及
第六圖為本發明之砷化銦鋁/砷化銦鎵超晶格侷限式雙極性電晶體之電流-電壓輸出特
性曲線之小電流區域放大圖。
雜項資料
雜項資訊 28卷08期 核發專利證書目錄
專利權號數 I120842
公告日期 0890921
專利申請案號 086107873
公告卷號 28
期數 08
專利權類別 發明
申請名稱 低補償電壓砷化銦鋁/砷化銦鎵異質侷限式雙極性電晶體
申請人 行政院國家科學委員會
發證日期 0900213
專利權異動
專利申
請案號
授權
註記
質權
註記
讓與
註記
繼承
註記
信託
註記
異議
註記
舉發
註記
消滅
日期
撤銷
日期
專利權
始日
專利權
止日
年費有
效日期
年費有
效年次
086107873 無 無 無 無 無 無 無     20000921 20170606 20120920 012
申請案件狀態
專利申
請案號
狀態異
動日期
案件申
請日期
實體審查
申請日
相關申
請案號
公開號 公告號 證書號 證書型別 狀態異
動資料
086107873 20000921 19970607       406337 120842 發明 初審核准
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