| 專利範圍 |
1.一種以射出成形製造複雜形狀碳化鉻/氧化鋁陶瓷元件
製程,係將碳化鉻粉末及氧化鋁粉末以10:90至40:60之
體積百分比形成混合粉末,以黏結劑混練形成懸浮體,而
後射出成型之成品,經溶劑與加熱脫脂後以冷均壓(CIP)
成型而後進行燒結。
2.如申請專利範圍第1項之製程,其中黏結劑係選用聚丙
烯、石臘及硬石臘中至少一種,黏結劑用量係佔上述粉末
之55-60vol%。
3.如申請專利範圍第1項之製程,將射出成形機設定成加
熱溫度155-150-150℃,射嘴溫度160℃,射出壓力500Kg/
cm2範圍,射出速率40cc/sec,射出含有前述粉末及黏結
劑之生胚,以製出具有複雜形狀的胚體。
4.如申請專利範圍第1項之製程,其溶劑係選用正乙烷、
正庚烷、正己烷、正辛烷等溶劑之至少一種於烘箱溫度約
60℃脫脂。
5.如申請專利範圍第1項之製程,其加熱脫脂係將溫度控
制約在600℃之高溫爐內進行熱脫脂,使黏結劑自胚體內
完全脫除後而於胚體內形成均勻的孔隙分佈。
6.如申請專利範圍第1項之製程,其脫脂後之生胚經
100MPa冷均壓以減少內部缺隙及提高生胚密度,並將此胚
體置於保持在約100℃烘箱內以避免水氣殘存於胚體中。
7.如申請專利範圍第1項之製程,其燒結方式可為常壓燒
結方式。圖示簡單說明:第一圖高溫燒結爐體之管路配置
圖第二圖熱脫脂之升溫曲線圖第三圖常壓燒結時的升溫曲
線圖第四圖常溫燒結時在1450℃和1550℃中,燒結後的樣
品之X-射線(XPD)分析圖a.1450℃(在未經加熱銅片處理過
的氬氣氣氛中)b.1550℃(在未經加熱銅片處理過的氬氣氣
氛中)c.1550℃(在通過加熱銅片處理的氬氣氣氛中)第五
圖具複雜形狀的成品:a.剛射出之生胚b.經溶劑脫脂之生
胚c.經熱脫脂之生胚d.經真空燒結的試品 |
