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489_088-038CP-TW

發佈日期 : 2009-04-30
公告號 262457
專利名稱 以低溫燒結製造LAS系陶瓷材料之方法(全文下載)
公告/公開日 1995/11/11
證書號 074851
申請日 1993/03/22
申請號 082102103
國際分類 C04B-035/58;C04B-035/64
公報卷期 22-32
發明人 吳南均
楊姍
申請人 行政院國家科學委員會 台北巿和平東路二段一○六號十八樓
代理人名 洪澄文
摘要 本發明係有關於一種對LAS系陶瓷材料以低溫燒結之製造方法。其中特別是在燒結前添加重量濃度為0.5~5%之LiF為燒結助劑,可大幅提高LAS系繞結體之相對密度至97.9%。本發明之製造方可以減少孔隙度,並增加緻密度,陶瓷產品之品質得以提升;此外燒結溫度之降低可節省能源成本。
專利範圍 1.一種以低溫燒結製造LAS系(Li@ss2O-Al@ss2O@ss3-SiO@
ss2)陶瓷材料之方法,包括以下步驟:
(a)以鋰溶膠、鋁溶膠和矽溶膠為原料,依溶膠-凝膠法合
成LAS系陶瓷粉末,其中Li@su+:Al@su+@su3:Si@su+@
su4之莫耳比為1:1:2;
(b)於550-750℃之溫度燒該合成之LAS系陶瓷粉末;
(c)將溶於醇類中之LiF溶液加入該經燒之LAS系陶瓷粉
末中,其中該LiF之量為該經燒之LAS系陶瓷粉末之0.50
-5wt%;以及
(d)將步驟(c)得到之LAS系陶瓷粉末成型,並於950-1250
℃之溫度進行燒結以得到LAS系陶瓷燒結體。
2.如申請專利範圍第1項之方法,其中(b)步驟乃以600℃
燒並持溫4小時者。
3.如申請專利範圍第1項之方法,其中LiF之添加量為3wt%
溶於乙醇中者。
4.如申請專利範圍第1項之方法,其中步驟(d)之燒結處理
乃是以3℃/分之升溫速率至該燒結溫度後持溫5小時進行
者。
圖示簡單說明:
第1圖為以3℃/min之升溫速率對水合量40莫耳比所合成
LAS膠體之DTA/TGA測定圖。
第2圖為LAS乾燥膠體在不同溫度下燒4小時所得之X光燒
射圖。
第3圖為LAS乾燥膠體在不同溫度下燒4小時所得之FTIR
圖譜。
第4圖為���-鋰輝石主結晶相之結晶度與熱處理溫度之關係
圖。
第5A圖為���-鋰輝石燒結過程中之熱膨脹測定。
第5B圖為添加4wt%LiF之���-鋰輝石於燒結過程中之熱膨脹
測定。
第6圖為���-鋰輝石於不同溫度下持溫5小時進行燒結,所
得燒結體其X光繞射圖。
第7A圖為添加有3wt%LiF之���-鋰輝石,其燒結晶粒粒徑與
燒結溫度之關係圖。
第7B圖為添加有1wt%LiF之���-鋰輝石,其燒結晶粒粒徑與
燒結溫度之關係圖。
第8圖為���-鋰輝石添加不同含量之LiF於1050℃燒結,所
得燒結體之X光燒射圖。
第9A圖為���-鋰霞石(203)晶面和���-鋰輝石(102)晶面之X
光繞射強度與LiF添加量之關係圖。
第9B圖為鋰霞石(22)晶面及(113)晶面之X光繞射強度與
LiF添加量之關係圖。
第10A圖為���-鋰輝石添加3wt%LiF之燒結體中鋁、矽在
STEM相圖中不同分析點之含量分布。
第10B圖為由同於第10A圖之試樣之STEM相圖中,在不同區
域取6個分析點鋁,矽含量分布圖。
第11圖為���-鋰輝石添加LiF燒結時相變化之示意圖。
第12圖為在不同燒結溫度下,添加3wt%LiF之燒結體晶粒
大小與持溫時間之關係圖。
第13圖為LiF添加量對���-鋰輝石燒結體密度之關係圖。
雜項資料  
專利權異動
專利申
請案號
授權
註記
質權
註記
讓與
註記
繼承
註記
信託
註記
異議
註記
舉發
註記
消滅
日期
撤銷
日期
專利權
始日
專利權
止日
年費有
效日期
年費有
效年次
082102103     19951111 20130321 20101110 015
申請案件狀態
專利申
請案號
狀態異
動日期
案件申
請日期
實體審查
申請日
相關申
請案號
公開號 公告號 證書號 證書型別 狀態異
動資料
082102103 19951111 19930322       262457 074851 發明 再審核准
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